화학기상증착장치

An apparatus for Chemical Vapor Deposition

Abstract

생산설비의 유지 및 보수시간을 단축하여 생산성을 높이기 위한 화학 기상증착 장치에 대하여 개시한다. 본 발명은 다수개의 웨이퍼를 장착한 보트와, 상기 웨이퍼에 근접한 부분의 온도를 감지하는 제1 열전대와, 상기 제1 열전대 및 상기 보트를 둘러싸는 내부튜브와, 상기 내부튜브를 감싸도록 형성된 외부튜브와, 상기 내부튜브 및 외부튜브에 반응열을 공급하는 히터와, 상기 히터에서 돌출되어 상기 외부튜브가 노출되는 홀을 갖는 히터 블록과, 상기 히터의 발열을 감지하고, 상기 히터 블록을 통해 상기 외부튜브와 상기 히터 사이의 정확한 위치에 삽입되도록 눈금자를 갖는 제2 열전대를 포함하여 이루어진다.
PURPOSE: A CVD(Chemical Vapor Deposition) apparatus is provided to position exactly a second thermocouple between a heater and an outer tube by using a scale. CONSTITUTION: A CVD apparatus includes a boat with a plurality of wafers, a first thermocouple, an inner tube for enclosing the first thermocouple and the boat, an outer tube(112) for enclosing the inner tube, a heater(118) for supplying heat to the inner and outer tubes, a heater block, and a second thermocouple. The heater block(124) with a hole for exposing the outer tube to the outside is protruded from the heater. The second thermocouple(122) includes a scale(136) for inserting exactly the second thermocouple itself between the outer tube and the heater.

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